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2月8日，華西證券（002926）發(fā)布一篇光伏設(shè)備行業(yè)的研究報(bào)告，報(bào)告指出，光伏銅電鍍-降本增效利器，市場(chǎng)向好趨勢(shì)明確。

報(bào)告具體內(nèi)容如下：

去銀化趨勢(shì)下，銅電鍍工藝優(yōu)勢(shì)凸顯

【資料圖】

電鍍優(yōu)勢(shì)在于成本低、電池接觸性能高、電池?fù)p耗率低、不易氧化等。根據(jù)我們測(cè)算：1）絲印HJT非硅成本約0.31元/W，比PERC非硅成本高出0.07元/W，電鍍HJT為0.23元/W，已經(jīng)基本和PERC打平。2）銀耗量方面，絲印HJT電池達(dá)到0.152元/W，顯著高于PERC電池0.06元/W和TOPCon電池0.08元/W的水平，而銅電鍍HJT電池漿料及其他材料成本約0.05元/W。若銅電鍍量產(chǎn)，我們認(rèn)為單瓦成本仍有進(jìn)一步降低的空間：1）設(shè)備中長(zhǎng)期來(lái)看有降本空間，降低折舊成本；2）藥劑、油墨等材料也有下降空間。3）薄片化降低硅片成本。

產(chǎn)業(yè)化穩(wěn)步推進(jìn)，設(shè)備市場(chǎng)規(guī)?？善?。海源復(fù)材（002529）、天合、通威、寶馨科技（002514）、愛(ài)旭、隆基等布局無(wú)銀化技術(shù)，如海源復(fù)材在電鍍銅技術(shù)已趨于成熟，降本增效比較明顯，2023具備產(chǎn)業(yè)化，2024年開(kāi)始形成規(guī)模化產(chǎn)能；寶馨科技銅電鍍技術(shù)及設(shè)備目前已完成中試供貨，同時(shí)正在量產(chǎn)化研發(fā)設(shè)計(jì)中。產(chǎn)業(yè)化推進(jìn)，設(shè)備廠商率先受益，規(guī)模產(chǎn)業(yè)化后銅電鍍?cè)O(shè)備產(chǎn)線投資額有望由目前的1.5-2億元/GW降低至1-1.2億元/GW。

根據(jù)我們測(cè)算，2026年HJT銅電鍍?cè)O(shè)備市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)86億元，其中曝光機(jī)和鍍銅設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模分別為27億元和30億元。

銅電鍍工藝中圖形化環(huán)節(jié)路線不一，電鍍銅環(huán)節(jié)仍存技術(shù)難點(diǎn)

種子層制備中PVD制備工藝為主流：種子層制備是為了改善銅金屬電極與TCO間的粘附性，常用經(jīng)濟(jì)效益高的銅金屬。制備方法有PVD、CVD、噴涂、印刷等，其中PVD為主流方法。此外，如邁為股份（300751）已采用無(wú)種子層電鍍方案，提高HJT轉(zhuǎn)換效率至25.94%。

圖形化工藝成熟但路線不一，選擇最優(yōu)路線降低成本是關(guān)鍵：圖形化環(huán)節(jié)包括噴涂感光膠層、曝光、顯影，其中主要感光材料有干膜、濕膜、光刻膠。曝光、顯影環(huán)境是將圖形轉(zhuǎn)移至感光材料上，主流技術(shù)有普通掩膜光刻技術(shù)、激光直寫(xiě)技術(shù)、激光轉(zhuǎn)印等，其中激光直寫(xiě)式光刻是銅電鍍領(lǐng)域中的主流技術(shù)。該環(huán)節(jié)采用的曝光機(jī)為核心設(shè)備，主要布局企業(yè)有芯碁微裝、蘇大維格（300331）、天淮科技等。

電鍍銅環(huán)節(jié)仍存技術(shù)難點(diǎn)待突破，設(shè)備廠商加快布局：電鍍方式主要有垂直升降式電鍍、垂直連續(xù)電鍍及水平電鍍等。其中，垂直電鍍工藝更為成熟，但效率或存在瓶頸；水平電鍍?nèi)菀讓?shí)現(xiàn)自動(dòng)化但目前鍍銅均勻性較差。電鍍?cè)O(shè)備廠商主要有東威科技、捷得寶、羅博特科（300757）、鈞石能源等。其中，東威科技已實(shí)現(xiàn)8000片/小時(shí)光伏垂直鍍銅設(shè)備研發(fā)；羅博特科已完成設(shè)備內(nèi)測(cè)，已發(fā)往客戶端驗(yàn)證；鈞石能源、太陽(yáng)井、捷德寶電鍍?cè)O(shè)備也在推進(jìn)中。

投資建議：光伏銅電鍍產(chǎn)業(yè)化加速，行業(yè)處于0-1，蘊(yùn)含巨大機(jī)遇，給予行業(yè)“推薦”評(píng)級(jí)。

受益標(biāo)的：東威科技、羅博特科、蘇大維格、芯碁微裝、邁為股份、捷佳偉創(chuàng)（300724）等

風(fēng)險(xiǎn)提示：銅電鍍產(chǎn)業(yè)化進(jìn)度不及預(yù)期，行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)加劇，數(shù)據(jù)更新不及時(shí)、測(cè)算誤差等。

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